在半導體芯片制造、MEMS器件加工及光學薄膜研發(fā)中，微米級甚至納米級的臺階高度直接決定器件性能。澤攸臺階儀憑借高精度非接觸測量、自動化數(shù)據(jù)分析與多場景適配，成為微納結構表征的“黃金工具”。其核心技術融合了光學干涉、精密運動控制與智能算法，將臺階高度測量精度推向亞納米級，為微納制造提供從研發(fā)到量產的全流程質量保障。

　　一、光學干涉核心：納米級測量的“光影密碼”

　　1.白光干涉技術

　　①采用寬帶LED光源，通過邁克爾遜干涉儀生成等厚干涉條紋，利用垂直掃描干涉（VSI）模式實現(xiàn)大范圍（10μm-2mm）臺階測量；

　?、谙嘁聘缮妫≒SI）模式通過壓電陶瓷驅動參考鏡步進移動（步長λ/8），結合傅里葉變換算法提取相位信息，分辨率達0.01nm。

　　2.抗干擾設計

　　①雙光路補償系統(tǒng)消除環(huán)境振動與空氣折射率波動影響，測量重復性<0.05nm；

　?、谄穹止饫忡R（PBS）隔離雜散光，信噪比提升40dB，適應潔凈室與普通實驗室環(huán)境。

　　二、精密運動系統(tǒng)：從“微米級位移”到“納米級控制”

　　1.閉環(huán)壓電掃描臺

　?、俨捎萌S壓電陶瓷驅動器，配合電容位移傳感器，實現(xiàn)樣品表面亞納米級步進掃描；

　?、谡駝痈綦x平臺抑制地面震動，確保長行程測量穩(wěn)定性。

　　2.智能掃描策略

　　①自適應步長算法：根據(jù)表面粗糙度動態(tài)調整掃描密度，平衡速度與精度；

　?、谄唇訙y量功能：支持100mm×100mm大樣品分區(qū)掃描，自動對齊誤差<50nm。

　　三、智能分析與報告：從“原始數(shù)據(jù)”到“工藝決策”

　　1.三維形貌重建

　?、倩赯ernike多項式擬合去除表面波紋度，生成無失真三維形貌圖；

　　②粗糙度參數(shù)自動計算，符合ISO 4287標準。

　　2.AI輔助缺陷識別

　?、偕疃葘W習模型標注臺階邊緣毛刺、塌陷等缺陷，分類準確率>98%；

　?、跀?shù)據(jù)庫比對功能：將測量結果與工藝設計值對比，生成偏差熱力圖，指導光刻、刻蝕參數(shù)優(yōu)化。

　　四、應用場景：從晶圓制造到生物芯片

　　1.半導體領域：測量光刻膠臺階高度，驗證蝕刻深度均勻性；

　　2.微流控芯片：評估PDMS微通道深度，確保流體阻力一致性；

　　3.光伏產業(yè)：檢測PERC電池背面鈍化層厚度，提升光電轉換效率。
 

　　澤攸臺階儀不僅是測量工具，更是微納制造的“工藝醫(yī)生”。從LED芯片的量子阱厚度控制到生物傳感器金膜的納米級平整度檢測，其技術突破讓微觀世界的“毫厘之差”無所遁形。未來，隨著原位加熱/冷卻模塊與多物理場耦合功能的加入，澤攸臺階儀或將實現(xiàn)動態(tài)過程測量，為下一代半導體與量子器件研發(fā)提供更強大的“納米顯微鏡”。對于追求精度的工程師而言，這臺儀器正是打開微納世界大門的“金鑰匙”。