布魯克在失效分析中的作用

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

ContourX-500布魯克在失效分析中的作用
產(chǎn)品失效往往源于表面的微小異常。ContourX-500布魯克白光干涉系統(tǒng)，憑借其揭示表面微觀形貌細(xì)節(jié)的能力，成為失效分析工作中查找根本原因、重現(xiàn)失效過(guò)程的有力工具。

產(chǎn)品型號(hào)：ContourX-500

更新時(shí)間：2025-12-10

廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商

訪(fǎng)問(wèn)量：24

產(chǎn)品咨詢(xún) 17701039158

產(chǎn)品分類(lèi)

PRODUCT CLASSIFICATION

三維光學(xué)輪廓儀

布魯克 BEUKER白光干涉光學(xué)輪廓儀 Sensofar 儀光新型共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR 3D光學(xué)輪廓儀 SENSOFAR共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR結(jié)構(gòu)光三維輪廓儀 SENSOFAR平面度測(cè)量干涉儀 ZYGO三維光學(xué)輪廓儀布魯克三維光學(xué)輪廓儀

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ContourX-500布魯克在失效分析中的作用

產(chǎn)品失效往往源于表面的微小異常。ContourX-500布魯克白光干涉系統(tǒng)，憑借其揭示表面微觀形貌細(xì)節(jié)的能力，成為失效分析工作中查找根本原因、重現(xiàn)失效過(guò)程的有力工具。

當(dāng)產(chǎn)品出現(xiàn)功能異?；蜻^(guò)早損壞時(shí)，追溯根源的失效分析至關(guān)重要。許多失效模式，如疲勞斷裂、磨損、腐蝕、粘連、接觸不良等，其起始點(diǎn)或關(guān)鍵證據(jù)往往遺留在失效件的表面上。傳統(tǒng)的光學(xué)顯微鏡受景深限制，難以清晰呈現(xiàn)三維特征；掃描電鏡（SEM）雖分辨率高，但通常只能提供二維圖像且樣品制備復(fù)雜。ContourX-500布魯克則能在非破壞前提下，快速提供失效區(qū)域完整的三維形貌信息。

在機(jī)械失效分析中，例如軸承的剝落或齒輪的點(diǎn)蝕，失效起始點(diǎn)通常是微小的裂紋或凹坑。ContourX-500布魯克可以大視野掃描失效區(qū)域，定位可疑特征，然后對(duì)其進(jìn)行高倍率的精細(xì)三維測(cè)量。通過(guò)分析裂紋的走向、深度、開(kāi)口形狀，或凹坑的邊緣形態(tài)、底部形貌，可以輔助判斷失效是由于過(guò)載、材料缺陷、還是潤(rùn)滑不良引起。測(cè)量磨損區(qū)域的體積損失，可以定量評(píng)估磨損程度。

在電子元器件失效分析中，引線(xiàn)鍵合點(diǎn)的脫落、焊料接頭的虛焊、封裝材料的開(kāi)裂等問(wèn)題，都與界面形貌密切相關(guān)。ContourX-500布魯克可以無(wú)損地觀察鍵合點(diǎn)根部、焊料爬升高度、裂紋開(kāi)度等三維特征。對(duì)于透明封裝材料，甚至能透視觀察內(nèi)部的界面分層情況。這些三維數(shù)據(jù)比二維截面照片更能反映失效的立體狀態(tài)。

該設(shè)備在失效分析中的獨(dú)特作用還體現(xiàn)在其能夠進(jìn)行對(duì)比測(cè)量。通過(guò)測(cè)量同一批次中未失效的良品對(duì)應(yīng)區(qū)域的表面形貌，與失效件進(jìn)行定量對(duì)比，可以更清晰地識(shí)別出異常所在。例如，對(duì)比良品與失效品觸點(diǎn)表面的粗糙度與紋理，可能發(fā)現(xiàn)導(dǎo)致接觸電阻增大的微觀差異。

此外，ContourX-500布魯克的數(shù)據(jù)可用于模擬重現(xiàn)失效過(guò)程。例如，測(cè)得疲勞斷口的疲勞輝紋間距，結(jié)合載荷信息，可以反推裂紋擴(kuò)展速率。測(cè)得磨損面的特定紋理，可以與摩擦副的運(yùn)動(dòng)方式進(jìn)行關(guān)聯(lián)分析，推測(cè)磨損機(jī)理。這些都將失效分析從現(xiàn)象描述推向機(jī)理研究。

當(dāng)然，失效分析是一項(xiàng)綜合工程，ContourX-500布魯克是工具箱中的重要一員，而非全部。它通常需要與成分分析（如EDS）、結(jié)構(gòu)分析（如XRD）、力學(xué)測(cè)試等其他手段相結(jié)合，才能得出全面、準(zhǔn)確的結(jié)論。但它所提供的三維形貌量化數(shù)據(jù)，無(wú)疑是構(gòu)建完整失效證據(jù)鏈中堅(jiān)實(shí)的一環(huán)，幫助分析人員撥開(kāi)迷霧，直達(dá)問(wèn)題的核心。

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